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濕法刻蝕系統提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統，可以較大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。濕法...

勻膠旋涂儀采用創新設計的托盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果；內置調整水平裝置，較大限度的保證旋涂均勻；可對大小不同規格的基片進行旋涂。勻膠旋涂儀隨意任意時間范圍的加減速，可重復性達到+/-0.5RPM，分辨率小于0.5RPM；...

將熱重分析質譜儀與質譜儀聯用可以檢測到非常低含量的雜質，這一手段越來越受歡迎。通過熱重加熱樣品，樣品會因揮發物的存在或者燃燒分解出氣體，這些氣體被傳輸到質譜儀中，加以識別。由于質譜可以檢測材料非常低的含量，TG-MS聯用成為質量控制、產品安...

光學接觸角測量儀采用現代化工藝制造，儀器采用先進的CCD數字攝像機，配倍高分辨率變焦式顯微鏡和高亮度LED背景光源系統，搭配三維樣品臺，可進行工作臺上下、左右、前后等方向移動。實現微量進樣及上下精密移動。同時還設計了伸縮桿結構工作臺，能適應...

勻膠顯影系統具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的...

光學接觸角測量儀可以記錄液滴圖像并且自動分析液滴的形狀。液滴形狀是液體表面張力、重力和不同液體樣品的密度差和濕度差及環境介質的函數。在固體表面上，液滴形狀和接觸角也依賴于固體的特性（例如表面自由能和形貌）。使用液滴輪廓擬合方法對獲得的圖像進...

PDC-002等離子清洗機是一種小型化、超清洗設備。等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表...

勻膠旋涂機的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。勻膠旋涂機機身采用全工程塑料制作，...

Harrick等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP)，能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠)，達到晶圓表面潔凈，Harrick等離子清洗機具有蝕刻率高，無電極污染，離子能量低，不損傷基板等優點。Harrick等離子清洗機的結構組成，...

勻膠旋涂機工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠旋涂機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。可以設定多達20個程序段來存儲不...